電鍍高頻電源的發(fā)展：自電鍍工藝問世以來，由于人們對(duì)電鍍工藝的要求日益提高，促進(jìn)了電鍍?cè)O(shè)務(wù)的發(fā)展、更新。由最初的直流發(fā)電機(jī)——電抗器調(diào)壓——自耦調(diào)壓器調(diào)壓——SCR可控硅整流——高精度電晶體整流器——脈沖電鍍電源——高頻開關(guān)電源，逐漸智能化。

直流發(fā)電機(jī)、電抗器調(diào)壓整流器已成為古董，不再有人使用；自耦調(diào)壓器整流器和SCR可控硅整流器雖然還廣泛使用，但是體積大，耗電多，已逐漸被高頻開關(guān)整流器所取代；高精度電晶體整流器雖然耗電量大，但是電壓、電流穩(wěn)定，精度高，輸出波形平滑，特別適應(yīng)于貴金屬的電鍍。

脈沖電源是一種可以提供通斷直流電源的脈沖整流器，利用電流（或電壓）脈沖的張弛來增加陰極的極性化和降低陰極的濃度極化，從而改善鍍層的物理化學(xué)性能。在鍍槽內(nèi)得到的是離散式（即非連續(xù)式）的電流；從時(shí)域分析的角度來看，在脈沖控制下，電沉積的電極過程由原來的直流過程轉(zhuǎn)變?yōu)橹芷诘拿}沖過程；從頻域分析的角度來看，脈沖供電為鍍槽提供了豐富的諧波電流分量。這種暫態(tài)的諧波鼓勵(lì)影響著電極過程，構(gòu)成了脈沖鍍的實(shí)質(zhì)。

在直流電鍍時(shí)，陰極表面附近液層中的金屬離子不斷被沉積，不可避免地會(huì)引起濃度極化和析氫等副反應(yīng)。而脈沖電鍍?cè)陔娏鲗?dǎo)通時(shí)，陰極表面附近液層中的金屬離子被充分地沉積；當(dāng)電流關(guān)斷時(shí)，陰極周圍的放電離子恢復(fù)到初始濃度，這樣，不斷周期重復(fù)的脈沖電流主要用于金屬離子的還原，使金屬離子處在直流電鍍時(shí)實(shí)現(xiàn)不了的極高過電位下沉積，其結(jié)果不僅可以對(duì)陰極改善鍍層的性質(zhì)，而且還可以降低析氫等副反應(yīng)所占的比例，關(guān)斷時(shí)間的存在不僅對(duì)陰極附近金屬離子濃度的恢復(fù)有好處，而且還將產(chǎn)生一些對(duì)沉積層有利有重結(jié)晶，吸脫附等現(xiàn)象。

高頻開關(guān)電源是現(xiàn)在市面上最流行的電鍍電源。高頻開關(guān)電源的最大優(yōu)點(diǎn)是體積小、重量輕、電能變換率高、提高產(chǎn)品質(zhì)量。主開關(guān)部件采用進(jìn)口的大功率IGBT,以超微晶（納米晶）軟磁合金為導(dǎo)磁材料，大功率的進(jìn)口的肖特基或超快速二極管為整流元件。控制板采用多環(huán)控，保護(hù)功能齊全。

（2）產(chǎn)品特點(diǎn)：

自耦調(diào)壓器式整流器：操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)單；有過載保護(hù)；輸出正弦波，可加濾波平滑；適用于一般電鍍。SCR可控硅整流器：操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)單；有穩(wěn)壓、穩(wěn)流及其它附近功能；有軟啟動(dòng)、缺相、過載保護(hù)；產(chǎn)品延伸為高壓、正負(fù)極性換向等；輸出不完整正弦波，可加濾波平滑；適用于一般電鍍和一些特殊用途。

高精度電晶體整流器：操作方便、維護(hù)較復(fù)雜；有穩(wěn)壓、穩(wěn)流及其它附加功能；有過熱、過載保護(hù)；輸出平滑直流，精度高；只適用于貴金屬電鍍。

脈沖整流器：操作較復(fù)雜；維護(hù)也復(fù)雜；有脈沖幅度、脈沖寬度調(diào)節(jié)及其它附加功能；有裝過熱、過載保護(hù)；輸出矩形波，有單向脈沖、雙向脈沖、直流疊加脈沖；適用于貴金屬電鍍。

高頻開關(guān)整流器：操作方便、維護(hù)也復(fù)雜；有穩(wěn)壓、穩(wěn)流及其它附加功能；有軟啟動(dòng)、缺相、過熱、短路、故障保護(hù)；輸出平滑直流或脈沖加諧波，適用于各種電鍍。

應(yīng)客戶生產(chǎn)之要求，可定制直流3A-10000A、6V-300V之各款式電鍍、電泳、氧化、電解及硬鉻等電源，輸出電壓電流可調(diào)、限壓限流隨意，使用靈活方便。

（3）常用型電源性能參數(shù)表：

（4）高頻開關(guān)整流器省電舉例：

按1000A/12V機(jī)等于12KW

我公司電源效率90%,可控硅電源效率約65%

可控硅電源：12KW÷0.65=18.5度

開關(guān)電源：12KW÷0.9=13.3度

省電：每小時(shí)省5.2度，每天省124.8度